IM 컴포넌트를 위한 6가지 주요 표면 처리 프로세스

표면처리는 기체재료의 표면에 인공적으로 표면층을 형성하는 과정으로서 이 표면층은 기체와 다른 기계적, 물리적, 화학적성능을 갖고있다.표면처리의 목적은 제품의 내부식성, 내마모성, 장식성 또는 기타 특수기능요구를 만족시키는것이다.IM 부품은 일반적으로 더 나은 내식성, 내마모성 및 전기 전도성 및 고품질의 표면을 얻기 위해 다양한 표면 처리가 필요합니다.

일.금속 광택

광택 처리란 기계, 화학 또는 전기화학 효과를 이용하여 공작물 표면의 거친 정도를 낮추어 밝고 평평한 표면을 얻는 과정을 말한다

이. 전기 도금 처리 

도금은 전해를 이용해 금속막을 금속이나 다른 재료의 표면에 부착하는 과정이다.전기 도금은 금속의 산화 (예: 녹) 를 방지하고 내마모성, 전도성, 반사율, 내부식성 (예: 황산동) 을 높여 미관성을 강화할 수 있다.IM 컴포넌트는 음극에 배치되며 금속 이온은 MIM 컴포넌트 표면에 부착된 전자를 수신합니다.일반적으로 구리, 아연 및 기타 코팅은 더 일반적입니다.

삼.  PVD 처리

PVD는 물리적 과정을 이용해 물질, 원자 또는 분자를 원본에서 기저 표면으로 옮기는 과정을 말한다.특수한 성능(고강도, 내마모, 방열, 내부식 등)을 가진 일부 입자를 성능이 낮은 기체에 도포하여 기체가 더욱 좋은 성능을 가지도록 하는 역할을 한다.공작물은 불활성 기체로 가득 찬 밀봉 공간에 배치되며, 금속 이온은 고압에서 공작물 표면으로 튀어 금속막을 형성한다.PVD의 기본 방법에는 진공 증발, 사출 및 이온 도금이 포함됩니다.

사.  검게 처리 또는 파랗게: 

검게 변하는 것은 금속 표면에 산화막을 형성하여 공기를 격리하고 녹을 방지하는 것을 포함하여 흔히 볼 수 있는 화학 표면 처리 방법이다.외관요구가 높지 않을 경우 흑화처리를 사용할수 있으며 흑화용액의 주요성분은 수산화나트륨과 아질산나트륨이다.

5.P인화 처리

인화는 화학과 전기화학 반응을 통해 인산염막을 형성하는 과정이다.인화의 주요 목적은 다음과 같다.

1) 모재를 보호하여 어느 정도 금속의 부식을 방지한다.

2) 도장하기 전의 바탕 페인트로 칠막층의 부착력과 내식성을 높인다.

육. 스프레이

스프레이 분무기나 원반분무기를 사용하여 압력이나 원심력을 이용하여 균일하고 정교한 안개방울을 코팅된 물체의 표면에 분산시키는 코팅 방법이다.

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